スパッタリング／化学蒸着／ブルーイング
電気めっき及び関連処理用語において、”f） 関連表面処理”に分類されている用語のうち、『スパッタリング』、『化学蒸着』、『ブルーイング』のJIS規格における定義その他について。
亜鉛メッキ、ニッケルメッキ、クロムメッキ、クロメート処理等、金属材料のメッキ加工（めっき加工）などに関する主な用語として、電気めっき及び関連処理用語（JIS H 0400）において、”f） 関連表面処理”に分類されている電気メッキ関連処理用語には、以下の、『スパッタリング』、『化学蒸着』、『ブルーイング』などの用語が定義されています。
電気めっき及び関連処理用語（JIS H 0400）
⇒【 f） 関連表面処理 】
分類： 電気めっき及び関連処理用語 > f） 関連表面処理
番号： 6031
用語： スパッタリング
定義：
加速された粒子が固体表面に衝突したとき、運動量の交換によって固体を構成する原子が空間へ放出される現象、及びこの現象を用いた成膜法。
対応英語（参考）：
sputtering
分類： 電気めっき及び関連処理用語 > f） 関連表面処理
番号： 6032
用語： 化学蒸着（※1）
定義：
気相化学反応によって、基板上に膜を形成させる方法。
略称：CVD。
対応英語（参考）：
chemical vapor deposition
分類： 電気めっき及び関連処理用語 > f） 関連表面処理
番号： 6033
用語： ブルーイング
定義：
適切な温度、空気、水蒸気又は化学薬品にさらして、鋼表面に鉄の酸化物皮膜を形成させる処理。
参考：
鋼の外観及び耐食性を改善するために行い、表面は、加熱温度によって黄色又は青色を呈する。
対応英語（参考）：
blueing
（※1）
化学蒸着には、以下などがあります。
【常圧CVD】
大気圧雰囲気中でのCVDのことで、大気圧CVDともいいます。
APCVDとも略されます。
【減圧CVD】
大気圧より低い減圧雰囲気中でのCVDのことで、低圧CVDともいいます。
LPCVDとも略されます。
【プラズマCVD】
反応ガス（原料ガスとも言われ、膜形成時に使用される膜成分を含むガス）をプラズマ（総電荷量がゼロであるようなイオンや電子などの電荷粒子と、原子、分子などの中性粒子からなる気体）状態にし、活性なラジカルやイオンの生成のもとで化学反応を行わせるCVDのことです。
熱プラズマCVD、直流プラズマCVD、高周波プラズマCVD、マイクロ波プラズマCVD、電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD、燃焼炎CVDなどがあります。
【レーザCVD】
反応ガス（原料ガスとも言われ、膜形成時に使用される膜成分を含むガス）の励起エネルギーとしてレーザを用いるCVDのことです。
レーザの波長によって紫外線レーザCVDと赤外線レーザCVDとに分類されます。